Historie

2001 Gründung als Spin-Off vom Fraunhofer Institut für Lasertechnik im Laseranwendungscenter Aachen
2002 Einführung eines luftgekühlten stand-alone InnoSlab-Lasers der A-Serie mit einer Ausgangsleistung von bis zu 20W
2002 Einführung der BX-Serie (Boxtar) des InnoSlab-Lasers mit passiv gekühlten Diodenlasern und einer Ausgangsleistung von bis zu 30W
2003 Einführung der IS-Serie des InnoSlab-Lasers mit einer Ausgangsleistung von bis zu 80W
2004 Standortwechsel in den Industriepark Aachen Würselen mit einer Gesamtgröße von 750m²
2006 Die IS-Serie wird auf eine Ausgangsleistung von bis zu 200W skaliert
2007 Einführung der Hochleistungs-HD-Serie des InnoSlab Lasers mit einer Ausgangsleistung von bis zu 600W
2008 Beginn der Entwicklung von Hochleistungslasern mit ultrakurzer Pulsdauer von einigen Pikosekunden
2009 Die BX-Serie wird auf eine Ausgangsleistung von bis zu 80W skaliert
2010 Einführung der kompakten Hochleistungs-DX-Serie des InnoSlab-Lasers mit einer Ausgangsleistung von bis zu 400W
2010 Demonstration eines Hochleistungs-ps-Lasers mit einer Ausgangsleistung von 400W und einer Pulsenergie von bis zu 800µJ
2010 Gewinner des ersten Preises „INNOVATION AWARD LASER TECHNOLOGY 2010“ verliehen vom AKL (Arbeitskreis Lasertechnik e.V.) und ELI (European Laser Institute)
2011 10 Jahre EdgeWave
2011 Einführung von ps-Lasern der PX-Serie mit einer Ausgangsleistung von bis zu 100W
2011 Einführung von Hochleistungs-ps-Lasern der PX-Serie mit einer Ausgangsleistung von bis zu 400W
2011 Beginn der Entwicklung von Hochleistungs-Femtosekunden-Lasern
2012 Gewinner des Stifterverbandpreises Wissenschaft 2012
2012 Gewinner des ersten Preises „INNOVATION AWARD LASER TECHNOLOGY 2012“ verliehen vom AKL (Arbeitskreis Lasertechnik e.V.) und ELI (European Laser Institute)
2014 Umzug in neues Firmengebäude mit einer Reinraumfläche von 1000m² und einer Gesamtfläche von 3500m²
2015 Verleihung des „ARTHUR L. SCHAWLOW AWARD“ des LIA (Laser Institute of America) an Dr. Keming Du
2016 Einführung von fs–Lasern der FX-Serie mit einer Ausgangsleistung von bis zu 200W
2016 Entwicklung einer neuen Laser Serie mit Nanosekunden Pulsen und einer mittleren Leistung von bis zu 800W
2016 Erweiterung der Büro und Arbeitsflächen. Es entsteht ein neues Applikationszentrum. Anfang 2017 stehen somit weitere 440m² Nutzfläche zur Verfügung.
2017 Eröffnung des neuen Applikationszentrums. Auf 130m² Fläche stehen nun kurz- und ultrakurz-gepulste Laser verschiedener Wellenlängen mit diversen Strahlführungssystemen sowohl für die Bearbeitung von Proben, als auch für die Produktion von Klein-Serien zur Verfügung.